定义：光致抗蚀器是一种装置，其电阻相对于入射辐射的强度变化。它具有巨大的能力，可以改变其暴露在光线下的抵抗力。LDR.是一种首字母缩写轻依赖电阻。它是一个非线性设备。
光致抗蚀剂也被称为光依赖性电阻器或光电导体显示出物质光电导性。
基本上是什么光电导性？
这是现象提高该电导率通过吸收电磁辐射的材料。辐射可以是γ，UV，IR辐射或可见光。
光致抗蚀剂的类型
它是本质或外部光依赖性电阻的两种类型。
1.内在光致抗蚀剂
该类别的LDR由未掺杂的半导体材料组成，即，这些是由纯半导体材料制成的硅或锗。需要足够的光能来激发电子从价带中的电子到传导带。
2.外部光致抗蚀剂
这种类型的LDR由掺杂的半导体材料构成。掺杂构成了价值高于价带的新能量水平。因此，减少激发电子所需的光能。
基本结构与光电图子的构造
光致抗蚀剂由光敏半导体材料构成。通常，在没有任何入射辐射的情况下，它由具有可忽略的自由电子的硫化镉组成。
在里面没有光，LDR拥有非常高阻约几兆欧姆。但是，在光线存在，它展品低阻财产，具有抵抗力几百欧姆。
下图显示了光致电的基本结构和符号：
该设备由一个组成蛇要么锯齿形图案轨道由硫化镉组成。蛇状布置是为了获得预期的额定功率和阻力而完成的。
该轨道分离一对金属接触。整个结构放置在塑料盒中，以便直接暴露于入射辐射。由于需要通过LDR中的光作用来改变电阻，因此金属触点的电阻必须低。
光致透镜的工作
因为我们现在熟悉LDR或光致抗蚀剂是光电导材料的事实。
通过吸收光线，价带电子将激励到导带。这里应注意，电子是通过电子来激发到导带中的适当的光能。
因此，较高的光能，较高的是电荷载体的存在导致导电性更大。
现在让我们看看阻力与照明之间的近似关系，这是给出的
这里，R.表示这一点抵抗性在欧姆
E.表示这一点照明和
一种和α.是不变
制造程序和硫化镉决定恒定α的值。
LDR特征
下图显示了电阻与光强度的特性曲线
这里，我们可以在上面的图中看到，当光的强度较小时，即，在较暗区域中，电阻较高，从而导致材料的导电性较低。
随着强度进一步增加，它导致耐降低。因此，提高电导率。因此，可以说阻力随着光强度的上升而下降。
在光致抗蚀剂的引入中，我们已经提到了它是非线性装置。这是因为落在其表面上的光的波长变化了器件的灵敏度。因为存在一些不响应于一定范围的光信号波长的光电阻挡。
在辐射发生后，抗性的变化在约8至12毫秒内完成。然而，在光照强度较小的情况下，需要大于1s的抵抗力以增加到更高的值。
换句话说，我们可以说当设备从某些照明水平暴露于暗区域时，它不会迅速增加。这被称为抵抗恢复率。
光致抗蚀剂的优点
- LDR提供良好的电压和功率处理能力。
- 它是一个低成本设备并随时可用。
光致阻挡者的缺点
- 抗性的变化对于快速的轻微动作有点缓慢。
光致抗蚀剂的应用
- LDR在光线和深色激活警报和交换机中找到其应用。
- 这些也用于自动控制街灯。
- LDR也用于光强度计和烟雾报警等。
这是值得注意的光电二极管要么PhotoLro ansistor与灯相比更敏感轻依赖电阻。这是因为光电二极管和光电晶体是基本上是真正的半导体材料，而PN结在LDR中不存在，因为它是无源部件。
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